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【IC风浪榜候选企业120】国内光刻胶头部企业,欣奕新材明星居品SKP10助力产业升级

发布日期:2024-11-27 20:41    点击次数:185

【编者按】自2020年举办以来,IC风浪榜已成为半导体行业的年度盛事。本年新增12项奖项,共设39项大奖,进一步顺心半导体投资与退出、科技前沿鸿沟孝顺、姿首篡改以及本领“出海”与拓展。评委会由逾越100家半导体投资定约会员单元及500+行业CEO构成。获奖名单将于2025半导体投资年会暨IC风浪榜授奖庆典上揭晓。

【候选企业】阜阳欣奕华新材料科技股份有限公司(以下简称:欣奕新材)

【候选奖项】年度本领冲破奖

【候选居品】12英寸集成电路用248nm深紫外正性光刻胶:SKP10

欣奕新材,自光刻胶产业起步,是中国大陆首家已矣彩色/玄色暴露光刻胶(RGB/BM)大鸿沟量产出货的企业。流程十余年的深耕细作,其光刻胶出货实绩位居人人前哨、国内头部,得手填补了国内在该鸿沟的空缺,灵验管制了枢纽鸿沟原材料“卡脖子”的曲折。

在半导体光刻胶鸿沟,欣奕新材雷同展现出宏大的本领实力。该公司领有光刻胶方面深厚的本领蕴蓄,研发团队由多名行业领军人人指挥,专注高端集成电路、先进封装制程愚弄光刻胶的开采与出产。已与多家12英寸Fab厂和先进封装产线达成协作干系,多款KrF、I-line、先进封装(Bump、RDL)光刻胶居品在客户导入考据中,并得手赢得订单已矣出货。此外,欣奕新材依托在光刻胶鸿沟蕴蓄的本领教育,持续进行产业本领交融和居品延迟,还开采出IC用特种光刻胶,如高分裂光刻胶(CIS)、微透镜光刻胶等,均属于国内开创,并已通过客户认证,可愚弄于CIS、AR/VR鸿沟。

这次,欣奕新材凭借其明星居品——SKP10竞逐IC风浪榜年度本领冲破奖,并成为候选企业。

SKP10是一款专为12英寸晶圆制造中的离子注入工艺愚弄策画的KrF光阻。该居品凭借雅致宽比(A/R>7/1)、高分解度(CD=250nm)、宽工艺窗口、低驻触及超卓的抗离子注入性能,梗概无邪愚弄于不同膜厚(1-3μm)的离子注入工艺层,得志多个熟谙制程本领节点的晶圆制造需求。该居品在离子注入愚弄中经客户考据,可对标海外同类型居品质能。

SKP10通过摄取特定结构的树脂和光酸体系,引入透明树脂结构和非蒸发脱保护基团,灵验调控光刻胶的透光率、光酸扩散速率、显影速率及耐离子注入性能,得手管制了collapse、Top loss形色、驻触及耐离子注入等愚弄曲折,全面合适12英寸晶圆制造的高尺度。

该居品已央求多项发明专利,涵盖化学放大型光致抗蚀剂过火制备门径、KrF树脂过火制备门径和化学放大型光致抗蚀剂等多个鸿沟,本领实力起初。

SKP10已在国内12英寸产线进行工艺、电学和良率考据,证据优异。

【奖项报告进口】

2025半导体投资年会暨IC风浪榜授奖庆典将于2024年12月举办,奖项报告已运行,当今搜集与候选企业/机构报谈正在进行,接待报名参与,共赴行业盛宴!

【年度本领冲破奖】

旨在犒赏2024年度于前沿本领鸿沟开展原始性紧要本领篡改,达到国际先进/起初水平,将来或产生紧要经济社会效益,关于鼓励我国集成电路产业链自主安全可控发展证据紧要作用的企业。

【报名条目】

1、深耕半导体某一细分鸿沟,2024年发布的新本领或居品具有原始性紧要本领篡改,达到国际先进/起初水平;2、居品愚弄范围广,具有雅致市集远景,对人人及国内半导体产业发展起到迫切作用。

【评比尺度】

本领的原始篡改性(50%);本领或居品的主要性能和方针(30%);居品的市集远景及经济社会效益(20%)。





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